<ul id="asc2q"></ul> <del id="asc2q"></del> 本設備是由石英坩堝（或氧化鋁陶瓷坩堝）和不銹鋼法蘭組成的真空坩堝爐。主要用于煅燒真空或惰性氣體保護下的高純度化合物或擴散半導體晶片，也可用于烘燒或燒結陶瓷材料。
真空井式坩堝爐參數說明
型號 | AFD-1200T | AFD-1400T | AFD-1700T |
工作溫度 | ＞1200℃ | ＞1400℃ | ＞1700℃ |
加熱元件 | 電阻絲 | 硅碳棒 | 硅鉬棒 |
熱電偶 | K型 | S型 | B型 |
控溫方式 | 31段可編程自動控制，PID調節控溫度 | ||
升溫速率 | 0-10℃ | 0-20℃ | |
控溫度 | ±1℃ | ||
大真空度 | -0.1MPa | ||
爐膛材料 | 氧化鋁陶瓷纖維板 | ||
爐殼 | 雙層爐殼，風冷結構（爐底安裝兩個散熱風扇），爐殼表面溫度低于60度 | ||
額定功率 | 1KW—8KW | ||
常用爐膛尺寸 | Φ240xH220mm；Φ40xH300mm；Φ60xH300mm； Φ80xH300mm；Φ100xH300mm；Φ120xH300mm | ||
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